Исследование поверхностной структуры пленок теллурида кадмия, изготовленных электрохимическим методом

Нетрадиционные источники энергии

  • Ж. Р. Паносян Национальный политехнический университет Армении
  • М. А. Ераносян Национальный политехнический университет Армении
  • А. Н. Кочарян Национальный политехнический университет Армении
  • Г. П. Варданян Национальный политехнический университет Армении
Keywords: полупроводниковые пленки, теллурид кадмия, гальваностатический метод, хлоридная термообработка, атомно-силовая микроскопия, шероховатость поверхностной структуры, поверхностный потенциал.

Abstract

Разработан экономически выгодный электрохимический метод получения базового электрода кристаллического теллурида кадмия (CdTe) для изготовления тонкопленочного солнечного элемента (СЭ) гетероструктуры CdS/CdTe. При изготовлении СЭ фронтальной конфигурации на предварительно полированную поверхность медной подложки наносились слои полупроводникового CdTe толщиной около 2 мкм. С применением атомно-силового микроскопа (АСМ) обнаруженa достаточно низкая шероховатость на поверхности медной подложки, на которой возможно формировать тонкий базовый слой CdTe. Медная подложка использовалась и как низкоомный контакт для базового слоя. Тонкие слои получены гальваностатическим методом. Для получения кристаллического полупроводникового тонкого слоя CdTe кубической сингонии в качестве электролита был использован раствор следующего состава: CdSO4: TeO2 = 10:1, а оптимальная температура электролита составляла примерно 80°С. Фоновым электролитом служил водный раствор 0,1 М K2SO4, pH электролита поддерживалось в пределах 1,6…2. Показано, что отклонение pH в щелочную область приводит к ухудшению качества полученной пленки CdTe на медном катоде. pH электролита регулировалось добавлением H2SO4. Пленки CdTe с проводимостью p-типа получаются в вышеуказанном электролите при плотности тока в пределах 1,5…2 мА/см2 . Определены основные величины, характеризующие шероховатость полученной поверхностной структуры CdTe: средняя высота и латеральные размеры частиц в пленке CdTe составляют 70 и 380 нм, а ширина выступа на половине высоты - 60…100 нм. Установлена роль хлоридной термообработки для увеличения размеров частиц поверхностной структуры и возможности изменения поверхностного потенциала тонких слоев CdTe методом атомно-силовой микроскопии. После хлоридной термообработки пленок CdTe размеры наночастиц соответственно составляют 1100 и 1800 нм, а ширина выступа на половине высоты – 800…1100 нм. В качестве источника хлоридных ионов использованы хлориды кадмия, магния, олова и аммония.

Author Biographies

Ж. Р. Паносян, Национальный политехнический университет Армении

Паносян Жозеф Ретевосович

д.ф-м.н., профессор, зав. лаб. “Гелиотехника”

М. А. Ераносян, Национальный политехнический университет Армении

Ераносян Мкртич Алексанович

к.т.н., сотрудник лаб. “Гелиотехника”

А. Н. Кочарян, Национальный политехнический университет Армении

Кочарян Асмик Нориковна

к.х.н., доцент, кафедра Химико-биологических и природоохранных технологий

Г. П. Варданян, Национальный политехнический университет Армении

Варданян Гор Патваканович

к.т.н., заместитель ректора

Published
2017-12-29